第826章 芯片（下）

    “江总，情况可能没有你想象的那么乐观”，听到江辉的话，朱正峰还是忍不住泼了一盆冷水。

    虽然江辉也没有表示出，“哦，原来芯片行业并不难”这种想法，但是从刚才那话的语气来看，似乎认为国内有中芯这些企业在搞芯片了，光辉集团要是进入这个领域的话，花钱买买设备，挖挖人，就出成绩了。

    这可把朱正峰给吓坏了。

    要是江辉整的扔个几百亿进去，然后就要去朱正峰搞出一个接近国际主流水平的芯片企业出来，那朱正峰可就得愁死了。

    “我这次来深市，会呆一周左右，乘着这个机会，你干脆好好的给我介绍一下手机行业的核心零部件的情况吧”，江辉说道。

    “没问题，那我们就先接着继续说芯片的情况吧。在国内，投资芯片行业面临着至少三个问题”，朱正峰开始继续他的分析。

    “第一就是设备，芯片生产涉及的制造设备种类非常多，价格都非常昂贵，其中最重要的是光刻机。光刻机的生产厂家并不多，在45纳米以上线宽的时代，岛国的佳能和尼康都能制造，但是等到芯片的制程工艺进步到十几纳米以下时，佳能和尼康目前已经不具备这方面的光刻机技术”。

    “最先进的光刻机技术是不是被欧洲一家什么公司给垄断了？”，江辉插话道。

    前世，光刻机的问题也曾经一度在互联网上吵的沸沸扬扬，江辉多多少少都听说过相关的一些信息，只不过记不住具体的详细内容了。

    “是的，世界上最先进的光刻机厂家就是asml，估计不用多久，是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司，主要股东是飞利浦，但三星，台积电和英特尔都占有股份。”

    “asml为半导体生产商提供光刻机及相关服务，tinscan系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向asml采购tinscan机型，例如英特尔，三星，台积电，中芯国际等”，朱正峰继续介绍道。

    “除了目前致力于开发的tinscan平台外，asml还在积极与imec， ibm等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如euv（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。

    同时，基于传统tinscan平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。去年末三星宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。”

    “三星的36纳米的芯片都已经开始生产啦？”，江辉有点吃惊的问道。

    “是的，中芯刚刚拿到45纳米的技术授权，连技术都还没有开始吃透，更不用说工厂建设和量产了，但是三星作为国际主流的芯片厂家，已经开始量产36纳米的芯片了”，朱正峰有点感慨的说道。

    “你说的第一个问题就是设备，难道是说asml不肯卖光刻机给天朝？”，江辉问道。

    “江总，你猜对了一半。也不能完全说asml不肯卖光刻机


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